装备Z轴样品台的N3 PhiniX
N3 PhiniX系列衍射仪完全具有媲美传统的大型衍射仪的性能与功能，其根本原因来源于优秀的系统整合和高质量的零部件以及丰富的附件信息相关。N3主要零部件均使用国际一流成熟产品，确保每一个环节的高性能和高稳定性。丰富的附件，满足了物相定性与定量分析、薄膜掠入射、薄膜反射率、原位、对分布函数(PDF)分析。
装备Z轴样品台的N3 PhiniX
装备8位自动进样器的N3 PhiniX
用于仪器控制、数据测量以及部分数据分析功能的软件系统
依靠科学与精细的对光程序以及智能的算法， N3 PhiniX 系列衍射仪在射峰角度的准确性、衍射峰绝对强度与信噪比，以及最小的角度分辨率等性能数据达到紧凑型衍射仪极致，同时也完全可以媲美绝大多数市面上大型衍射仪。
全谱范围内2θ角度偏差
Δ2θ < ±0.01°(NIST 1976c corundum)
LaB6 标样半高宽 ≤0.05°
(常规测试条件：Soller 2.5°，探测器通道数200个）
N3 PhiniX系列在不同功率下采集刚玉最强峰强度的比较
25次重复性测试标准偏差优于万分之五
N3 PhiniX标准配置为600W发生器加上640通道的光子直读探测器，其强度(或速度)超越传统的落地式衍射，相比市场主流以600W发生器配置256通道的紧凑型衍射仪系统提高2 倍。
选配1200W功率X射线光源与640通道(或者1280通道)的光子直读探测器N3 PhiniX 系列衍射仪颠覆了传统认知紧凑型衍射仪。
N3 PhiniX低角度衍射数据（山嵛酸银标样
N3 PhiniX衍射数据(SiC混合相)在相组成分析的应用
N3 PhiniX衍射数据在石墨化度计算的应用
N3 PhiniX衍射数据在三元锂电(NCM523)全谱图结构分析的应用
X射线反射率(X-ray Reflectivity, 缩写XRR)是一种非破坏性的表面敏感技术，利用的是X射线在薄膜表面和界面处的反射和折射光之间的干涉效应。在介质电子云密度有差异的情况下，它既可以分析晶体材料，亦可以分析非晶态材料。XRR测试的经典应用有：分析膜的总厚度(一般不超过1μm)、重复的多层薄膜的各单层厚度、材料表面的粗糙程度等。
从测试的角度而言，入射角与出射角度保持一致，即θ/θ扫描模式。
掠入射X射线衍射(grazing incidence X-ray Diffraction 缩写GIXRD) 作为一种先进的衍射技术，通过精确控制X射线入射的角度（即穿透深度）来避免样品深层或基底材料的衍射信号并最大化样品表面区域信息 。
在实现形式上GIXRD有着显著的特点：入射光夹角保持低角度(5°以内)不变，X射线衍射图谱通过探测器在衍射角度上扫描衍射强度完成。
透射是X光衍射测试的一种特殊测试模式（XRD in transmission)。在使用透射模式时，X射线穿过样品采集数据。这种模式适用于某些高分子薄膜、药物等取向样品。与反射模式相比，透射模式下X射线穿过样品，增加了与晶体平面交互的路径，从而更有效地避免由择优取向在峰强上的影响。
埃度纳米科技X射线衍射仪可为用户提供各种类型样品(粉末、薄膜等)的测试方案和超高质量的数据。粉末X射线衍射是埃度纳米N3系列台式衍射仪的基本功能之一。其采用的是B-B几何（Bragg-Brentano Geometry)反射模式。X射线管与探测器分别在以样品为圆心的圆上。该测试使用θ/θ扫描模式。
| 尺寸 | 78cmX70cmX91cm (LxDxH) |
|---|---|
| 重量 | 120kg（取决于配置与附件） |
| 总能耗 | 1kW-2kW（取决于配置与附件） |
| X 射线发生器 | 600W(40kV/15mA)1200W (40kV/30mA) |
| 测角仪 | 标准 Theta/Theta 测角仪角度准确度优于 ±0.01(2) |
| 探测器 | IDO640 光子直读一维阵列探测器 IDO1280 光子直读一维阵列探测器 PhiniX XE™ 二维能量分辨阵列探测器 |
| 电源需求 | 200-240VAC |
| 冷却系统 | 内部空气冷却或外部水冷 |
| 仪器操作控制 | 外部电脑 |
| X 射线光管 | 陶瓷 X 射线光管，Cu/Co/Mo/Ag 可选 |
| 样品台 | 旋转样品台 |
