物相鉴定
Phase Identification
Determine which
phases are present
Determine which
phases are present
Estimate the amount
of each phase
Crystal structure, atomic
positions, lattice refinement
Preferred orientation
of crystallites
Preferred orientation
of crystallites
Preferred orientation
of crystallites
Thickness, density, and interface roughness
Near-surface or depth-sensitive structural analysis
Near-surface or depth-sensitive structural analysis
High-resolution analysis of strain, lattice mismatch, and epitaxy
Local atomic structure and short-range order
SAXS Analysis Particle size, shape, and distribution
Electronic structure and local coordination analysis
峰位正确性、角度分辨率、信噪比与重复性，是衡量X射线衍射仪基础性能的核心指标。它们直接决定了物相识别的准确性、细微结构差异的分辨能力、弱信号的捕捉能力，以及长期测试结果的一致性。
N8DiffraX 回归衍射分析的基础能力建设，通过扎实的系统设计与精密工程控制持续提升这些关键数据表现，为复杂材料表征和高性能应用提供可靠支撑。
• 每台发货系统随机配置SRM1976c，全谱角度验收
• 全谱范围内(20~140°/2θ)角度位置准确性优于±0.01°
• 实测 SRM 660c LaB6 (110)峰的FWHM优于0.026°
• 15次重复性测试验证，峰位标准偏差达到万分之级别，最大偏移量优于0.001度
• 万分之级角度重复性带来：更可靠、更敏感的结构分析能力，角度位置准确性优于+0.01°
直面挑战：信噪比峰背比
为衍射的每一种可能而设计：解锁多场景分析能力
DiffraX Vertex One™
光学核心器件
DiffraX Vertex One™
光路核心附件
DiffraX Vertex Pro™系统
让光路适应样品，而非让样品适应光路
N8 DiffraX 可根据不同测试需求,提供 Cu、Mo、Ag 等多种X射线光源,并配置相匹配的光学系统、样品台及探测器系统,为用户开展常规物相分析、透射测试、小角散射、PDF分析、悬浮液测试、软包电池测试及环境敏感样品测试等提供灵活可靠的解决方案。
X射线衍射仪的透射实验在特殊样品测试中非常重要。对于强择优取向样品,透射模式可获得更完 整的取向信息;对于环境敏感样品,可配合密封或保护气氛减少外界影响;对于悬浮液样品和软包电池,X 射线需要穿透样品或封装结构获取衍射/散射信号,因此通常采用透射方式;对于小角散射和PDF分析,透射实验也是获取高质量散射数据、分析纳米结构和局域结构的重要方法。因此,透射实验是这些测无机化合物透射测量有助于降低取向效应，提升物相识别、晶型判断和结构分析的可靠性。
薄膜材料的关键结构信息往往集中在表面、界面和纳米尺度厚度变化中,常规粉末衍射难以充分反映。掠入射衍射可增强薄膜与近表面区域的衍射信号,降低基底干扰,帮助分析薄膜物相、取向、结晶质量与应力状态;X射线反射率测试则可用于评估薄膜厚度、密度、界面粗糙度和多层膜结构。
薄膜材料的关键结构信息往往集中在表面、界面和纳米尺度厚度变化中,常规粉末衍射难以充分反映。掠入射衍射可增强薄膜与近表面区域的衍射信号,降低基底干扰,帮助分析薄膜物相、取向、结晶质量与应力状态;X射线反射率测试则可用于评估薄膜厚度、密度、界面粗糙度和多层膜结构。
N8 DiffraX 依托DiffraX Vertex One™系统,保证低背景控制和高信噪比采集能力，针对NCM层状正极材料,N8 DiffraX 可通过结构精修分析Li/Ni原子占位变化,辅助评估原子混排程度,帮助用户理解结构稳定性与电化学性能之间的关系。
N8 DiffraX 依托DiffraX Vertex One™系统,保证低背景控制和高信噪比采集能力，可在 94.6% 主相 SiC 的强信号背景下，仍然识别低至 0.2% 的 Si 微量相，并区分 3.0% 和 2.2% 的不同结构 SiC 微量相，展现出优异的弱峰检测能力和复杂物相解析能力。
得益于IDONÅNO DiffraX Vertex One™系统，仪器背景与噪音可以降至最低。
高荧光样品Fe2O3最强峰峰背比超过100倍，弱峰信噪比提高一个数量级以上。
检出限与定量限制显著提高。
织构与应力会直接影响材料的力学性能、服役可靠性和加工稳定性。织构测试可揭示晶粒取向分布，帮助判断轧制、沉积、烧结等工艺对材料各向异性的影响；应力测试则可评估材料内部残余应力状态，辅助分析变形、开裂、翘曲和失效风险，为金属、陶瓷、薄膜及功能材料的工艺优化与质量控制提供关键依据。
织构与应力测试核心配置：点光源、尤拉环样品台(XYZ样品台)与二维探测器。
• 硅钢织构测定可直观呈现材料内部晶粒取向的分布特征。
通过极图/织构图分析，可判断是否形成有利于磁性能的优势取向，评估取向集中程度与各向异性水平，从而为硅钢轧制、退火工艺优化以及磁性能提升提供关键依据。
基于地质样品的微区XRD测试，N8 DiffraX 可同步获得二维衍射图像与一维衍射谱图。测试结果显示二维衍射图谱显示样品中部分矿物相呈现明显的不连续德拜环衍射特征，表明其具有强烈的择优取向，而非完全随机取向的粉末状态。结合一维谱图的物相识别结果，可进一步分析局部区域中的矿物组成、取向特征与结构差异，为复杂地质样品的微区物相分析和结构表征提供可靠依据。
微区测试核心配置：点光源、激光视屏定位系统、XYZ样品台与二维探测器。
N8 DiffraX可支持温度、气氛、湿度、压力、电化学及反应过程等多类型原位XRD分析，帮助用户在接近真实工况的条件下实时观察材料的物相转变、晶体结构演变、晶格参数变化与反应中间态。通过连续追踪外场作用下的结构响应，N8DiffraX可为相变机制研究、热稳定性评估、电池充放电过程分析、催化反应过程表征及材料性能关联研究提供更直接、更可靠的实验依据。
三元材料充放电循环原位测试
| 测角仪 | 垂直测角仪 |
|---|---|
| 测量半径 | 预设为 300mm 可连续改变 |
| 2Theta 角度测量范围（取决于附件） | -110 到 +168 度 |
| 测角仪定位方式 | 步进马达 + 光学编码器 |
| 最小步长 | 0.0001 度 |
| 全谱验收精度 | NIST SRM 1976c 全谱优于 ±0.01 度 |
| X 射线波长 | Cu、Co、Mo、Ag、Cr 等 |
| X 射线发生器 | 3KW 或者 4kW |
| X 射线光学 | 0D多层膜反射镜 1D 多层膜反射镜(平行或聚焦) 2D多层膜反射 |
| 探测器 | PhiniX Line™ 一维阵列探测器 PhiniX Area™ 二维阵列探测器 PhiniX XE™ 二维能量分辨阵列探测器 |
| 系统能量分辨率（取决于配置） | 300eV-600eV |
| 外部尺寸（高 x 深 x 宽） | 156cm×114mm×205cm |
| 重量 | 650Kg |
| 电源 | 单相：210-240 V |
| 最大能量消耗 | 6.5kVA |
| 冷却水供应 | 最小 3.8l/min，压力 4-7 bar，温度 10-23 摄氏度 |
